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半导体污水处理

概述

       随着电子产品应用领域日益扩大,半导体对我国发展具有重要的意义。半导体涉及行业广泛,根据生产原料及工序的不同,产生废水的废水性质也不同,但都存在着排水量大,污染能力强的特点,严重危害生态环境健康的同时也制约其发展。

污水来源及水质特点

       根据半导体生产废水污染物的特点,可将半导体废水分为三类,主要来源于生产过程中产生的含氟废水、有机废水及金属离子废水,详细介绍如下:

       1、含氟废水,废水主要来自于半导体生产工序的刻蚀段,由于使用了大量的氢氟酸、氟化铵等试剂,产生的污染如氟化物、氨氮等浓度较高,废水一般呈强酸性;

       2、有机废水,其污染物质主要是一些常规污染物,生产浓度跟生产工艺及操作管理水平关系较大,COD一般在200~3000mg/L;

       金属离子废水,半导体废水中的金属离子种类众多,主要如铜、镍、锡、铅、银等,浓度一般在几十mg/L。

处理难点分析

       高浓度的含氟废水处理难度大,一般的化学沉淀法难以彻底去除水中的氟离子,在排放要求高的时候,应对其采用多种组合工艺处理。

       半导体有机废水浓度不会太高,但不同企业的水质变化大,其进水水质需根据化验监测结果来确定。

       对于不同种类的高浓度金属离子废水,应该分开收集进行处理,若废水中含金属离子种类较多,工艺流程会较长。

污水处理工艺

       含氟废水一般采用化学沉淀法,投加钙盐与水中的氟离子形成CaF2,再加以混凝剂辅助即可去除水中的氟离子。出水要求高时,可与生化法、吸附法等联合运用。

       有机废水一般采用经济高效的生化法,如单独的好氧法或与缺氧法、厌氧法组合工艺,对于废水中COD、氨氮、总氮等常规污染物去除效果非常可观。

       金属离子废水则需针对不同废水不同种类进行选择,常用的有化学沉淀法、吸附法、离子交换法等。

       半导体行业生产需水甚多,用水要求不高,一般建议将废水做回用处理,以节约生产成本。具体可见我司零排放及中水回用单元。

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